薄层电阻（Sheet Resistance, Rs）是表征导电薄膜性能的关键参数，直接影响柔性电子、透明电极及半导体器件的性能。四探针法以其高精度和可靠性成为标准测量技术，尤其适用于纳米级薄膜表征。

本文系统探讨四探针法的测量原理、优化策略及其在新型导电薄膜研究中的应用，并结合Xfilm埃利测量在半导体量测装备及光伏电池电阻检测系统的技术积累，为薄膜电学性能的精确测量提供理论指导和技术参考。

样品制备

本研究采用标准化制备流程，在预涂覆聚酰亚胺/绝缘双层的200 mm Borofloat玻璃晶圆上沉积12组IGZO薄膜，通过差异化后处理工艺调控其薄层电阻值，并额外沉积5 nm钛金属层以适配四探针法、微波谐振器和太赫兹时域光谱三种测量技术的对比需求。

所有样品制备均在严格控制的洁净室环境下完成，确保工艺参数（如沉积温度25±0.5u℃、真空度<5×10−6 Torr、退火温度150–350℃）的高度一致性，为后续测量技术比对提供可靠的样品基础。

四探针法的基本原理

四探针测量装置示意图

四探针法（4PP）是测量薄膜薄层电阻（Rs）最常用且最简单的技术。典型的四探针装置由四个等间距排列的共线探针组成，用于与被测材料建立电接触。Rs的计算方法为：在外侧两个探针上施加直流电流（I），在内侧两个探针上测量产生的电压降（ΔV）。通过测量该电压降，可使用公式计算薄层电阻：

对于有限尺寸样品，需引入几何修正因子C。

其中C值取决于样品尺寸与探针位置关系，可通过有限元仿真确定。

实验流程

全晶圆扫描：对200 mm晶圆进行20点网格化测量

局部表征：将晶圆切割为20×20 mm²样片，测量中心及四边缘位置

数据验证：每个点位重复测量4次，剔除异常值后取平均

其他技术的基本原

微波谐振器法

扫描式介质谐振器系统示意图

微波谐振器法的理论基础建立在介质扰动理论上，其核心测量方程为：

其中关键参数：

Δfs：镀膜与空白衬底的共振频率差

Δwg−Δws：镀膜与空白衬底的共振线宽差

f：3.25 GHz基频（TE01模）

εs′：衬底介电常数实部

该技术通过非接触式微波探测（边缘场扰动原理）实现200mm晶圆的全自动扫描测量（步长可调5-20mm），兼具亚纳米级厚度分辨率与秒级单点测量速度，特别适用于超薄易损薄膜及在线工艺监控。

太赫兹时域光谱

三组晶圆样品的频域分辨薄层电阻测量示例

太赫兹时域光谱（THz TDS）技术通过测量薄膜对太赫兹波的透射率来计算薄层电阻，其核心方程为：

式中关键参数：

Z=376.7Ω：真空阻抗（波阻抗）

ns：衬底材料的太赫兹折射率

t=Ew/Esub：振幅透射率（镀膜样品与空白衬底的太赫兹场强比）

该技术通过非接触式透射测量（精度<0.5%）实现薄层电阻的快速检测（频域平均法<1秒/点）和频变特性分析（频域分辨法），兼具25mm大范围扫描和2μm微区表征能力，特别适用于柔性电子和半导体薄膜的无损检测。

测量结果对比分析

三种测量技术对12片晶圆测量的薄层电阻平均值

对比三种测量技术，发现其对12片IGZO/Ti薄膜晶圆的薄层电阻测量结果具有良好一致性。由于晶圆表面电阻存在显著的空间不均匀性，为确保可比性，研究采用将晶圆切割为20mm×20mm标准样片的方法，在五个固定位置（中心、顶部、底部、左侧、右侧）进行重复测量。

经切割处理的12片晶圆薄层电阻测量结果对比

测量结果显示，三种技术在微观尺度仍保持高度吻合，其中钛镀层的后处理工艺是影响电阻值的主要因素。尽管微波和太赫兹技术具备非破坏性优势，但本研究通过切割晶圆的对比方法，验证了四探针法作为基准测量技术的可靠性，同时揭示了样品空间异质性对测量结果的重要影响。

四探针法作为薄层电阻测量的金标准，具有测量原理简单、数据可靠的优势。该方法基于欧姆定律直接测量，不受材料介电特性影响，尤其适用于实验室标定。通过研究探索与非接触技术融合的方案，在保留基准性的同时实现快速扫描。

四探针方阻仪

四探针方阻仪用于测量薄层电阻（方阻）或电阻率，可以对最大230mm 样品进行快速、自动的扫描， 获得样品不同位置的方阻/电阻率分布信息。

✔ 超高测量范围，测量1mΩ~100MΩ

✔ 高精密测量，动态重复性可达0.2%

✔ 全自动多点扫描，多种预设方案亦可自定义调节

✔ 快速材料表征，可自动执行校正因子计算

Xfilm埃利四探针方阻仪在本文中不仅是四探针法理论优势的实践载体，更是推动多技术对比研究的关键工具。未来将进一步提升四探针法的适用边界，使其在先进电子制造中持续发挥核心作用。

原文参考：《Sheet Resistance Measurements of Conductive Thin Films: A Comparison of Techniques》